Вследствие высокой плотности и высокой степени ионизации потока плазмы импульсного электродугового генератора, традиционные источники электрического смещения подложки оказываются неэффективными. В то же время применение смещения подложки дает положительный эффект, особенно на начальном этапе процесса осаждения пленки. Одним из способов реализации электрического смещения подложки в данном случае может быть использование емкостного накопителя электрической энергии включаемого между технологической оснасткой и корпусом камеры вакуумной установки.

Источник питания BPS 150-30P120 предназначен для питания системы электрического смещения подложки в процессах осаждения ta-C тонкопленочных покрытий с использованием импульсного электродугового генератора углеродной плазмы

Источник питания обеспечивает заряд накопителя энергии емкостью до 800 мкФ, установленного в цепи смещения подложки, при частоте следования импульсов дугового разряда до 120 Гц. Источник питания имеет вход синхронизации, позволяющий синхронизировать цикл заряд-разряд источника питания генератора плазмы с циклом заряд-разряд системы электрического смещения в режиме ведомого устройства.

Источник питания должен обеспечивать следующие характеристики:

Напряжение заряда накопителя	25 – 150 В
Максимальная частота следования импульсов разряда генератора углеродной плазмы при емкости накопителя электрического смещения 800 мкФ	120 Гц
Максимальная потребляемая от питающей сети мощность	10 кВА
Габариты источника питания	≤ 4U, D = 495 мм
Вес источника питания	≤ 25 кг